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+芯片互联是指在芯片内部、芯片与芯片之间以及芯片与系统之间传输信号的物理连接通道。在摩尔定律放缓的背景下,仅靠晶体管微缩已难以持续提升芯片性能,芯片互联技术因此成为突破算力瓶颈的关键路径之一。传统的电互联面临电阻、电容、电感等寄生效应带来的信号衰减和延迟问题,而光互联因其高带宽、低损耗、抗干扰等优势,正成为新一代芯片互联的重要方向。魔技纳米在芯片互联领域的技术路线聚焦于三维光子集成。利用纳米级三维激光直写技术,公司在光电芯片上加工三维光波导结构,用于实现不同光芯片、芯片与光纤之...
飞秒激光是指脉冲宽度在飞秒(10⁻¹⁵秒)量级的超短脉冲激光。当飞秒激光聚焦到材料表面时,能量在极短时间内被吸收,在热扩散尚未发生之前即完成材料去除或改性,从而实现所谓的“冷加工”效果。这一特性使飞秒激光在微纳加工领域获得了广泛关注——它既可用于光刻胶的多光子聚合增材制造,也可用于金属、玻璃等材料的减材加工和表面改性。魔技纳米围绕飞秒激光技术构建了超快激光微纳加工中心(MJ-Works系列)。该加工中心不仅拥有纳米级三维加工能力,还配备了双波长飞秒激光输出,可加工多种材料。可...
在微纳制造领域,PWB通常指光子引线键合(PhotonicWireBonding),是一种利用飞秒激光双光子聚合技术在光芯片之间直接“打印”三维聚合物光波导的新型光互联技术。与传统金属引线键合不同,PWB的“线”是光透明的聚合物波导,能够引导光信号传输,避免了电互联中的电阻、电容、电感等寄生效应。魔技纳米在PWB技术领域推出了专用设备——Prome-Photonic光子芯片专用三维光刻设备。该设备专为光子芯片集成领域实现光子引线键合技术而设计,拥有高精度纳米级三维加工能力与高...
微透镜是指直径在微米至毫米量级的微型光学透镜,通常以阵列形式集成使用,构成微透镜阵列。单个微透镜的功能与传统透镜类似——对入射光进行汇聚、发散或准直,但当大量微透镜以规则排列组成阵列时,便具备了传统单透镜难以实现的光场调控能力。微透镜阵列不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能,而且具有单元尺寸小、集成度高的特点,能够完成传统光学元件无法完成的功能。魔技纳米在微透镜制造领域采用的技术路线是基于多光子聚合的飞秒激光直写技术。与传统微透镜制造方法相比,这一技术路径的优势在于:无需制...
无掩膜光刻是新型数字化微纳加工技术,摒弃了传统光刻依赖物理掩模版的作业模式,依托数字信号调控光束完成图案曝光成型。传统光刻需要提前定制掩模板,工序繁琐、改版成本高,更适合大批量定型生产,难以适配小批量试制、多样化结构研发的需求。无掩膜光刻通过数字化直写成像方式,直接将设计图形投射至基材表面,大幅简化光刻工艺流程,适配现代微纳器件的快速研发与试样加工场景。该技术依托可编程光学系统运行,图形修改仅需调整计算机设计文件,无需更换硬件模板,工艺灵活度较高。可适配多种基底材料与微纳结构...
在微电子技术中,引线键合是连接芯片与封装基座的常见工艺。随着光通信和光子集成电路的快速发展,芯片之间的光信号互连成为了新的技术挑战。光子引线键合(PhotonicWireBonding,PWB)正是为了解决这一难题而诞生的新型封装技术。它借鉴了传统电子引线键合的概念,利用具有三维自由形态的聚合物波导作为“桥梁”,跨越芯片之间的间隙,从而实现光信号在不同光子元件或芯片之间的高效传输。这项技术的核心优势在于其出色的灵活性和对高精度对准的宽容度。在传统的混合光子集成中,将不同材料(...
三维激光直写技术作为微纳制造领域的一项前沿工艺,正逐步从实验室走向广泛的工业应用。它突破了传统光刻在结构和材料上的诸多限制,为复杂微纳器件的快速原型制造和定制化生产提供了灵活且高效的解决方案。随着微纳器件向集成化方向不断发展,这项技术的应用潜力也在逐步释放,成为支撑精密制造产业升级的重要基础装备之一。三维激光直写的核心工作原理,是利用飞秒激光的非线性效应,将能量精确聚焦于光敏材料的特定区域。由于多光子吸收仅发生在焦点附近的极小体积内,设备无需借助掩模版,就能直接写入任意复杂的...
双光子设备依托双光子吸收的非线性光学效应,集合超快激光、精密扫描、信号采集等模块,可完成深层生物样本成像与三维微纳结构加工两类核心工作,是光学研究领域重要的实验平台。区别于常规单光子光学设备,该类设备多选用近红外飞秒脉冲激光作为激发光源,依靠焦点位置很高的光子密度触发反应,能够在减少周边区域干扰的前提下获取目标信息或者完成材料加工,近些年在多个前沿科研方向得到更多使用。随着生命科学、微纳制造领域的研究不断推进,传统光学设备在成像深度、三维加工精度上存在一定局限,双光子设备凭借...
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