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+3D打印技术在宏观制造领域的普及,极大地改变了工业设计与产品开发模式。然而,当我们将视角从宏观尺度聚焦到微米乃至纳米尺度时,传统的3D打印技术往往因为分辨率不足、支撑结构难以去除等问题而束手无策。微纳3D打印技术正是在这一需求驱动下诞生的,它不仅实现了微尺度下的立体成型,更打破了传统微电子制造中平面工艺的桎梏,为三维微器件的研发提供了全新路径。一、微纳3D打印的技术流派微纳3D打印并非单一技术,而是一系列能够实现微纳尺度三维构型的方法集合。目前,主流的微纳3D打印技术主要包括...
在微纳加工的庞大体系中,如果说光刻技术是大规模复制的印刷机,那么激光直写技术则是精雕细琢的刻刀。激光直写无需掩膜,无需模具,仅凭一束聚焦的激光,便能在基底上直接刻画出微米乃至纳米级的图形结构。这种直接、灵活的加工方式,使其在科研探索、定制化生产以及复杂三维结构制造中发挥着不可替代的作用。一、激光直写的技术内涵与分类激光直写是一个广义的概念,泛指利用聚焦激光束在材料表面或内部进行局部改性、去除或增材制造的过程。根据加工机制和材料相互作用方式的不同,激光直写可以分为多种类型。最常...
光刻技术是现代半导体制造和微纳加工的基石,其水平直接决定了集成电路的集成度和性能。然而,传统的投影光刻技术高度依赖昂贵的物理掩膜版,这不仅在研发阶段带来了高昂的成本与漫长的周期,也限制了微纳器件在设计上的快速迭代。为解决这一痛点,无掩膜光刻技术应运而生,以其高度的灵活性和低成本优势,成为微纳制造领域的重要补充。一、传统掩膜光刻的局限在标准的光刻流程中,掩膜版扮演着“底片”的角色。光束穿过掩膜版上的透光与遮光图形,经过光学系统缩放后投射到涂有光刻胶的基底上,从而实现图形的转移。...
随着现代制造业向精密,传统加工手段在面对热敏感材料、超硬材料以及微纳尺度加工时,往往显得力不从心。热影响区、微裂纹、重铸层等问题,严重制约了器件的性能与寿命。飞秒激光加工技术的出现,以其独特的“冷加工”机制,为解决上述难题提供了革命性的方案。一、飞秒激光的物理特性飞秒是一种时间单位,1飞秒等于10的负15次方秒。飞秒激光是指脉冲宽度在飞秒量级的超短脉冲激光。以常见的钛蓝宝石飞秒激光器为例,其脉冲宽度通常在几十到几百飞秒之间。为了直观理解这一极短时间:在一飞秒内,光仅能行进0....
微纳制造是面向微米、纳米尺度的精密加工与成型技术,是现代制造领域的重要分支。不同于传统宏观制造工艺,微纳制造主要针对微小结构、精密器件、超薄涂层、微通道组件等微观产品进行加工制备,通过精密工艺控制,实现材料在微观尺度下的塑形、改性与组装。该技术涵盖微机械加工、纳米镀膜、光刻、微成型、精密刻蚀等多种工艺体系,是衔接基础材料科学与装备产业的关键技术。随着科技产业向小型化、精密化、集成化方向发展,传统制造工艺已经难以满足微型器件、高精度零部件的生产需求。微纳制造技术可以在极小的空间...
无掩膜光刻是一类无需物理掩模版的光刻技术,通过数字方式直接控制光束,将设计图案投射或直写至涂有光刻胶的基底表面,完成微纳图形加工。作为传统光刻的重要补充,它省去了掩模制作、对准等环节,凭借高灵活性与短周期优势,成为科研与小批量制造的核心技术,适配半导体、微流控、光学器件等多个领域。无掩膜光刻的核心价值在于打破传统光刻对固定掩模版的依赖,实现“设计即制造”的数字化加工。其技术路径多元,主流包括激光直写、数字微镜器件(DMD)投影、电子束直写等,不同路线在分辨率、效率上各有侧重,...
近日,在“2025年山东省智能装备产业创新发展交流活动暨2025年度(第六届)山东省装备制造业科技创新发展大会”上,魔技纳米凭借“微纳三维制造及其光敏材料关键技术及应用”项目的突破性技术创新与显著产业价值,成功摘得“2025年度山东省装备制造业科技创新奖一等奖”!这是我司该成果继2025年7月斩获“山东省工程师协会工程科学技术奖一等奖”、9月获评“2024年度中国好技术A类”及“山东电子学会科学技术奖二等奖”后,科技实力再获省级认证!魔技纳米团队深耕微纳制造十余年,此次获奖的...
双展联动构建“光电子+半导体”融合生态9月10-12日,第26届中国国际光电博览会(CIOE)与SEMI-e深圳国际半导体展在深圳国际会展中心同期举办,双展在展示内容、观众群体上深度融合,可一站式洞悉“光电器件-半导体制造-芯片”全产业链创新。在此次双展联动的契机下,魔技纳米精心筹备,携更丰富的产品系列与nanoboostprinter前沿技术强势亮相,展示企业在跨尺度微纳加工领域的成就,成为展会中备受瞩目的焦点。魔技纳米现场盛况向左滑动查看魔技现场魔技纳米三大产品系列魔技纳...
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