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+什么是双光子聚合双光子聚合(Two-PhotonPolymerization,TPP)是一种基于非线性光学效应的微纳3D打印技术。它利用飞秒激光脉冲在光敏树脂内部聚焦,通过双光子吸收过程引发局域聚合反应,从而能够加工出远小于激光衍射极限的特征尺寸,并实现真正的三维自由曲面结构。与传统的单光子光刻不同,双光子聚合的激发几率与光强的平方成正比,因此聚合区域被严格限制在焦点中心的极小体积内——这一体积通常称为“体素”,其尺寸可达百纳米甚至更小。物理原理简述在常规的紫外光刻中,光子的...
无掩膜光刻(MasklessLithography)是一类不依赖物理掩模版实现图形转移的光刻技术的统称。它通过数字化的图形发生器——通常为空间光调制器或扫描激光系统——将设计图案直接投射或绘制于光刻胶表面。这种方法在降低前期投入、缩短研发周期和支持高混合生产方面展现出价值。技术路线分类目前商业化和科研领域常见的无掩膜光刻系统主要包含以下几种技术路线:第一类是基于数字微镜器件(DMD)的投影式无掩膜光刻。DMD由数百万个微米尺度的可偏转镜面组成,每个镜面代表一个像素。经过紫外光...
在微纳加工领域,激光直写技术(LaserDirectWriting,LDW)作为一种灵活、高效的加工方法,近年来受到广泛关注。该技术无需传统光刻所需的掩模版,通过聚焦激光束直接在光敏材料表面进行图案化曝光,为快速原型制作、小批量生产和科研探索提供了重要手段。基本原理激光直写技术的核心在于将激光束经物镜聚焦成微小光斑,通过控制光束与样品的相对运动轨迹,在光刻胶或其他光敏层上逐点、逐线地绘制出所需图形。完成曝光后,经过显影等后处理步骤,即可在基片上获得图案化的微结构。根据激光与材...
人类文明的发展,往往伴随着制造工具精度的不断提升。如果说石器时代是人类对宏观世界的初步改造,那么今天,我们正在步入一个对微观世界进行精细化雕琢的时代。微纳加工技术,正是这一时代的核心驱动力。它是指在微米、纳米甚至亚纳米尺度上,对材料进行图形化、刻蚀、沉积和改性的一系列先进制造技术。无论是智能手机中的核心芯片,还是前沿的光子集成电路,其诞生都离不开微纳加工技术的支撑。这项技术如同微观世界的雕刻刀,正在重塑半导体与光学产业的未来。微纳加工的核心工艺流程微纳加工并非单一的技术,而是...
微纳制造是面向微米、纳米尺度的精密加工与成型技术,是现代制造领域的重要分支。不同于传统宏观制造工艺,微纳制造主要针对微小结构、精密器件、超薄涂层、微通道组件等微观产品进行加工制备,通过精密工艺控制,实现材料在微观尺度下的塑形、改性与组装。该技术涵盖微机械加工、纳米镀膜、光刻、微成型、精密刻蚀等多种工艺体系,是衔接基础材料科学与装备产业的关键技术。随着科技产业向小型化、精密化、集成化方向发展,传统制造工艺已经难以满足微型器件、高精度零部件的生产需求。微纳制造技术可以在极小的空间...
无掩膜光刻是一类无需物理掩模版的光刻技术,通过数字方式直接控制光束,将设计图案投射或直写至涂有光刻胶的基底表面,完成微纳图形加工。作为传统光刻的重要补充,它省去了掩模制作、对准等环节,凭借高灵活性与短周期优势,成为科研与小批量制造的核心技术,适配半导体、微流控、光学器件等多个领域。无掩膜光刻的核心价值在于打破传统光刻对固定掩模版的依赖,实现“设计即制造”的数字化加工。其技术路径多元,主流包括激光直写、数字微镜器件(DMD)投影、电子束直写等,不同路线在分辨率、效率上各有侧重,...
近日,在“2025年山东省智能装备产业创新发展交流活动暨2025年度(第六届)山东省装备制造业科技创新发展大会”上,魔技纳米凭借“微纳三维制造及其光敏材料关键技术及应用”项目的突破性技术创新与显著产业价值,成功摘得“2025年度山东省装备制造业科技创新奖一等奖”!这是我司该成果继2025年7月斩获“山东省工程师协会工程科学技术奖一等奖”、9月获评“2024年度中国好技术A类”及“山东电子学会科学技术奖二等奖”后,科技实力再获省级认证!魔技纳米团队深耕微纳制造十余年,此次获奖的...
双展联动构建“光电子+半导体”融合生态9月10-12日,第26届中国国际光电博览会(CIOE)与SEMI-e深圳国际半导体展在深圳国际会展中心同期举办,双展在展示内容、观众群体上深度融合,可一站式洞悉“光电器件-半导体制造-芯片”全产业链创新。在此次双展联动的契机下,魔技纳米精心筹备,携更丰富的产品系列与nanoboostprinter前沿技术强势亮相,展示企业在跨尺度微纳加工领域的成就,成为展会中备受瞩目的焦点。魔技纳米现场盛况向左滑动查看魔技现场魔技纳米三大产品系列魔技纳...
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