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+微纳加工,简而言之,就是在微米(1μm)到纳米(1nm)的极小尺度上,对材料进行精密设计、加工与制造的技术体系。这项技术是现代半导体、光电子、生物医疗等前沿领域的基石,直接推动了集成电路、智能手机、数码相机等科技产品的飞速发展。微纳加工的实现路径主要分为两种截然不同的思路。第一种是“自上而下”(TopDown),这就像一位技艺雕刻师,通过不断移除多余的材料来塑造目标结构。在这一路径下,光刻技术是核心工艺,它利用光子束或电子束在光刻胶上“绘制”图案,再通过刻蚀技术将图案转移到基...
增材制造技术在宏观制造领域取得了显著成就,而随着科学技术向微观尺度延伸,传统的平面微加工工艺已难以满足复杂三维微纳器件的制造需求。在此背景下,微纳3D打印技术应运而生。这是一种结合了增材制造理念与微纳加工精度的新型工艺,能够在微米甚至纳米尺度上构建具有复杂空间拓扑结构的三维实体,为微观世界的结构设计与功能实现提供了重要的制造手段。微纳3D打印技术主要依赖于光固化原理,其中以双光子聚合技术为主要代表。在双光子聚合微纳3D打印过程中,飞秒激光被高数值孔径物镜聚焦于光敏树脂内部。由...
微纳加工是指在微米至纳米尺度上对材料进行成形、图案化与结构构建的制造技术体系,是半导体、光电子、生物医疗和精密仪器等领域的共性基础。传统的微纳加工主要依赖平面光刻工艺——在平坦的硅片或玻璃基底上,通过旋涂光刻胶、掩模曝光、显影和刻蚀等步骤将设计图案转移至衬底表面。然而,平面光刻要求衬底表面平坦光滑,难以在曲面、柔性或非规则表面上实现高精度图案化,且掩模版的制作成本较高、周期较长。烟台魔技纳米科技有限公司成立于2017年,是一家三维微纳制造领域集研发、生产、销售及服务于一体的高...
激光直写技术是微纳加工领域中一种基于计算机控制的高精度无掩膜加工方法。与传统的投影光刻不同,激光直写不依赖于覆盖整个视场的面曝光,而是通过将一束聚焦的激光束直接在基底表面进行逐点或逐线扫描,利用光化学或光物理过程改变材料的性质,从而实现微纳图形的构建。这种数字化制造方式将计算机辅助设计模型与光学加工技术紧密结合,为微纳结构的定制化制造提供了重要途径。激光直写系统的基本构成包括光源、光束调制器、高精度位移台、聚焦物镜以及控制系统。在加工过程中,激光束经过光学系统整形和聚焦,形成...
无掩膜光刻是新型数字化微纳加工技术,摒弃了传统光刻依赖物理掩模版的作业模式,依托数字信号调控光束完成图案曝光成型。传统光刻需要提前定制掩模板,工序繁琐、改版成本高,更适合大批量定型生产,难以适配小批量试制、多样化结构研发的需求。无掩膜光刻通过数字化直写成像方式,直接将设计图形投射至基材表面,大幅简化光刻工艺流程,适配现代微纳器件的快速研发与试样加工场景。该技术依托可编程光学系统运行,图形修改仅需调整计算机设计文件,无需更换硬件模板,工艺灵活度较高。可适配多种基底材料与微纳结构...
在微电子技术中,引线键合是连接芯片与封装基座的常见工艺。随着光通信和光子集成电路的快速发展,芯片之间的光信号互连成为了新的技术挑战。光子引线键合(PhotonicWireBonding,PWB)正是为了解决这一难题而诞生的新型封装技术。它借鉴了传统电子引线键合的概念,利用具有三维自由形态的聚合物波导作为“桥梁”,跨越芯片之间的间隙,从而实现光信号在不同光子元件或芯片之间的高效传输。这项技术的核心优势在于其出色的灵活性和对高精度对准的宽容度。在传统的混合光子集成中,将不同材料(...
三维激光直写技术作为微纳制造领域的一项前沿工艺,正逐步从实验室走向广泛的工业应用。它突破了传统光刻在结构和材料上的诸多限制,为复杂微纳器件的快速原型制造和定制化生产提供了灵活且高效的解决方案。随着微纳器件向集成化方向不断发展,这项技术的应用潜力也在逐步释放,成为支撑精密制造产业升级的重要基础装备之一。三维激光直写的核心工作原理,是利用飞秒激光的非线性效应,将能量精确聚焦于光敏材料的特定区域。由于多光子吸收仅发生在焦点附近的极小体积内,设备无需借助掩模版,就能直接写入任意复杂的...
双光子设备依托双光子吸收的非线性光学效应,集合超快激光、精密扫描、信号采集等模块,可完成深层生物样本成像与三维微纳结构加工两类核心工作,是光学研究领域重要的实验平台。区别于常规单光子光学设备,该类设备多选用近红外飞秒脉冲激光作为激发光源,依靠焦点位置很高的光子密度触发反应,能够在减少周边区域干扰的前提下获取目标信息或者完成材料加工,近些年在多个前沿科研方向得到更多使用。随着生命科学、微纳制造领域的研究不断推进,传统光学设备在成像深度、三维加工精度上存在一定局限,双光子设备凭借...
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