2026-68
双光子设备是依托双光子吸收效应研发的高精度光电科研设备，主要分为双光子显微成像系统与双光子微纳加工系统两大类型，是生命科学、材料工程、精密制造领域的核心装置。该设备利用近红外飞秒激光实现非线性光学激发，突破了传统单光子成像与加工的技术局限，可在不损伤活体样本、不破坏材料表层结构的前提下，完成深层成像与三维微纳结构加工，是微观领域精细化研究与精密制备的重要工具。传统光学设备多采用单光子激发模式，存在光损伤大、成像深度浅、背景干扰多、易出现光漂白等问题，难以适配活体动态观测、厚组...
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三维激光直写设备是一种基于激光光刻技术，在光敏材料中直接加工出三维微纳结构的精密制造仪器。与传统的掩模光刻不同，该设备无需制作物理掩模版，而是通过计算机控制的聚焦激光束在光刻胶内按照预设三维轨迹进行扫描曝光，显影后即可获得连续、光滑的二维或三维微结构。在微机电系统、微光学元件、生物芯片、微流控器件以及组织工程支架等领域，三维激光直写设备为复杂微结构的快速原型制作提供了一种较为灵活的加工手段。该技术因其无需掩模、设计修改方便、加工分辨率可达亚微米级别的特点，在科研院所和制造业中...
查看更多2026-528
微纳制造是面向微米、纳米尺度的精密加工与成型技术，是现代制造领域的重要分支。不同于传统宏观制造工艺，微纳制造主要针对微小结构、精密器件、超薄涂层、微通道组件等微观产品进行加工制备，通过精密工艺控制，实现材料在微观尺度下的塑形、改性与组装。该技术涵盖微机械加工、纳米镀膜、光刻、微成型、精密刻蚀等多种工艺体系，是衔接基础材料科学与装备产业的关键技术。随着科技产业向小型化、精密化、集成化方向发展，传统制造工艺已经难以满足微型器件、高精度零部件的生产需求。微纳制造技术可以在极小的空间...
查看更多2026-512
无掩膜光刻是一类无需物理掩模版的光刻技术，通过数字方式直接控制光束，将设计图案投射或直写至涂有光刻胶的基底表面，完成微纳图形加工。作为传统光刻的重要补充，它省去了掩模制作、对准等环节，凭借高灵活性与短周期优势，成为科研与小批量制造的核心技术，适配半导体、微流控、光学器件等多个领域。无掩膜光刻的核心价值在于打破传统光刻对固定掩模版的依赖，实现“设计即制造”的数字化加工。其技术路径多元，主流包括激光直写、数字微镜器件（DMD）投影、电子束直写等，不同路线在分辨率、效率上各有侧重，...
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近日，在“2025年山东省智能装备产业创新发展交流活动暨2025年度（第六届）山东省装备制造业科技创新发展大会”上，魔技纳米凭借“微纳三维制造及其光敏材料关键技术及应用”项目的突破性技术创新与显著产业价值，成功摘得“2025年度山东省装备制造业科技创新奖一等奖”！这是我司该成果继2025年7月斩获“山东省工程师协会工程科学技术奖一等奖”、9月获评“2024年度中国好技术A类”及“山东电子学会科学技术奖二等奖”后，科技实力再获省级认证！魔技纳米团队深耕微纳制造十余年，此次获奖的...
查看更多2025-915
双展联动构建“光电子+半导体”融合生态9月10-12日，第26届中国国际光电博览会（CIOE）与SEMI-e深圳国际半导体展在深圳国际会展中心同期举办，双展在展示内容、观众群体上深度融合，可一站式洞悉“光电器件-半导体制造-芯片”全产业链创新。在此次双展联动的契机下，魔技纳米精心筹备，携更丰富的产品系列与nanoboostprinter前沿技术强势亮相，展示企业在跨尺度微纳加工领域的成就，成为展会中备受瞩目的焦点。魔技纳米现场盛况向左滑动查看魔技现场魔技纳米三大产品系列魔技纳...
查看更多2025-94
微纳3D打印（Micro/Nano3DPrinting）是一种通过逐层添加材料的方式，在微米或纳米尺度上制造三维物体的技术。与传统的3D打印技术不同，微纳3D打印技术能够在极其精细的尺度上进行高精度打印，通常应用于微小尺寸的物体、结构以及高性能功能材料的制造。1.基本概念微纳3D打印是基于增材制造（AdditiveManufacturing,AM）原理，采用数字化设计，通过层层叠加材料的方式逐步构建出三维物体。其最大的特点在于精度和分辨率，可以在微米甚至纳米尺度上制造具有复杂...
查看更多2025-71
三维激光直写系统是一种先进的微纳加工技术，它利用高度聚焦的激光束在材料表面或内部进行精确的图案化处理。这种技术能够在不需要掩膜的情况下直接根据计算机辅助设计（CAD）模型制造出复杂的三维微观结构，因此在微电子学、光子学、生物医学工程、纳米科技等领域有着广泛的应用前景。工作原理三维激光直写系统通常使用飞秒激光器或皮秒激光器产生超短脉冲激光。这些激光脉冲具有高的峰值功率和非常短的作用时间，可以在不影响周围材料的情况下实现对焦点处材料的精确改性或去除。通过精密控制激光束的位置和强度...
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