2026-622
微透镜阵列是由数十至数万个微型透镜按一定规律排列而成的光学元件阵列。每个微透镜的尺寸通常在数微米至数百微米之间，整列器件可实现对入射光场的波前调控、分束、聚焦和均匀化等功能。微透镜阵列已广泛应用于三维成像、光通信、照明系统、增强现实显示和红外探测等领域。一、主要制备技术路线微透镜阵列的制备方法可根据加工原理分为热熔法、模压法、直写法等几类。光刻胶热熔法是技术成熟度较高的一类工艺。其基本流程为：在衬底上涂覆光刻胶层，通过掩模曝光将阵列图形转移到光刻胶上，显影后形成光刻胶柱状阵列...
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双光子聚合3D打印技术基于非线性光学中的双光子吸收效应——当飞秒激光脉冲被紧聚焦到光敏树脂内部时，焦点处的光强密度足以激发双光子吸收，使树脂在焦点体积内发生聚合固化。由于双光子吸收概率与光强的平方成正比，聚合反应被严格限制在焦点中心的小体积内（体素），从而突破了光学衍射极限，实现了纳米级分辨率的三维结构制造。这项技术是目前少数能够实现百纳米级精度、任意复杂三维结构制造的增材制造方法。一、国产装备的技术进展近年来，国产双光子聚合3D打印装备在多个技术维度上取得了进展。华中科技大...
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微纳加工技术是指在微米乃至纳米尺度上对材料进行精确成形、改性与集成的制造技术体系。它是连接基础科学研究与微纳尺度功能器件的桥梁，也是集成电路、微机电系统、生物医学工程、光电子学等领域的技术底座。微纳加工并非单一工艺，而是一个涵盖多种物理与化学原理的方集合，其技术路线可大致划分为“减法加工”“加法加工”和“等效加工”三大类。一、减法加工：从材料中“雕刻”出结构减法加工是微纳加工中历史最久、应用广的一类工艺，其核心逻辑是从块体材料或薄膜材料中通过物理或化学方式去除不需要的部分，保...
查看更多2026-69
在精密制造产业持续向微观尺度延伸的当下，纳米级三维加工技术成为支撑微光学、生物医疗、光电芯片等前沿领域发展的关键力量。烟台魔技纳米科技有限公司深耕三维微纳制造领域多年，是集研发、生产、销售与综合服务于一体的高新技术企业，团队积累了丰富的超快激光加工相关经验，依托自主知识产权技术，打造出多款适配不同场景的微纳加工装备，PROME-Uni纳米3D打印设备便是其面向科研与工业市场推出的核心产品之一，为多领域精密加工提供全新技术路径。这款纳米3D打印设备依托多光子聚合原理打造，是适配...
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在光学与制造科学的交叉领域，双光子技术以其独特的物理机制，打破了传统光学的衍射极限，实现了真正的三维纳米级制造。这项技术不仅是微纳加工领域的一项重大突破，更为光子学、生物医学、微机械等前沿学科提供了创新工具。要理解双光子技术，首先要从其物理本质——双光子吸收说起。在常规的单光子吸收过程中，一个光子的能量必须大于材料的带隙才能激发电子跃迁。而在双光子吸收中，材料同时吸收两个较低能量（较长波长）的光子，两者的能量叠加后满足跃迁条件。这种现象的发生概率极低，只有在光子密度区域（即激...
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在半导体制造的漫长流程中，光刻无疑是成本高昂且至关重要的环节。传统的光刻技术高度依赖掩膜版，掩膜版就像是一张包含着电路蓝图的照片底片。然而，制作一块先进工艺的掩膜版不仅需要耗费数百万甚至上千万人民币的资金，还需要长达数周的周期。在芯片设计日益复杂、产品迭代速度不断加快的今天，掩膜版的高昂成本和长周期成为了创新的一大阻碍。为此，无掩膜光刻技术应运而生，为特定领域的芯片制造提供了一条灵活且经济的路径。无掩膜光刻，顾名思义，是指在光刻过程中不使用物理掩膜版，而是通过控制光源直接在光...
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在现代科技的宏大图景中，有一项技术默默地支撑着从智能手机到航天器的几乎所有设备，这就是微纳加工技术。微纳加工是指在微米乃至纳米尺度上，对材料进行图形化、刻蚀、沉积和改性的一系列工艺集合。它是现代半导体工业的基石，也是探索微观物理世界、开发新型器件的核心手段。微纳加工技术的核心流程可以概括为“加法”和“减法”两大类工艺。其中，“图形化”是整个流程的灵魂，通常通过光刻技术来实现。光刻利用特定波长的光，将掩膜版上的复杂电路图形转移至硅片表面的光刻胶上。随后，刻蚀工艺作为“减法”，将...
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随着数据流量的指数级增长，传统的基于铜线的电互联技术在带宽、功耗和延迟方面逐渐力不从心。光子芯片，利用光波作为信息载体，具有大带宽、低延迟、抗电磁干扰等天然优势，被视为未来计算与通信系统的重要基石。然而，光子芯片之间、以及光子芯片与电子芯片之间的高效互联，一直是一个棘手的技术难题。在这一背景下，PWB(光子引线键合)技术脱颖而出，成为了解决光互联瓶颈的革命性方案。光子芯片的工作原理决定了其对对准精度的要求。传统的光子芯片互联通常依赖于光栅耦合器或边缘耦合器，这要求芯片在封装时...
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