ARTICLE

技术文章

当前位置:首页技术文章PWB技术及其在多芯片光互连中的应用

PWB技术及其在多芯片光互连中的应用

更新时间:2026-06-22点击次数:9
光子引线键合是一种基于双光子聚合3D激光直写光刻的光子芯片互连技术。该技术利用高能量脉冲激光使光刻胶在特定位置发生多光子聚合作用,经显影和干燥后形成具有任意三维几何形状的聚合物波导,用于连接光子芯片的出光口与入光口、激光器与光纤等光学组件。
 
一、技术原理与核心优势
 
PWB的技术基础是双光子聚合三维直写光刻。飞秒激光脉冲被紧聚焦在液态光敏树脂中,在焦点体积内激发双光子吸收,引发聚合反应固化材料。通过精确控制激光焦点的三维扫描路径,可在不同光子芯片之间“打印”出自由形态的单模波导。
 
PWB的核心优势体现在以下几个方面。首先是对准容差的大幅提升——PWB波导可补偿芯片贴装过程中高达±30微米的位置偏差,使被动贴装成为可能,无需对波导进行主动对准。其次是耦合效率——优化的自由曲面波导几何结构在C波段可实现每个耦合界面低于2分贝的插入损耗。第三是平台兼容性——PWB支持不同材料平台光子芯片的混合集成,包括磷化铟、绝缘体上硅、氮化硅、铌酸锂和玻璃等。第四是自动化量产潜力——PWB将光纤与芯片之间复杂的空间对准转化为“波导内有线连接”,可实现高密度封装和自动化量产。
 
二、应用场景
 
PWB技术在多个光互连场景中展现出应用价值。在芯片到芯片互连中,PWB波导可连接位于不同芯片上的纳米光子电路。在激光器到芯片耦合中,PWB可将半导体激光器的出光口与硅光芯片的入光口直接相连。在芯片到光纤耦合中,PWB可将硅光芯片的出光口与单模光纤相连。该方案避免了传统方案中耗时较多的主动对准调节,节省了光束整形所需的透镜等分立元件,制备流程相对简捷。
 
在面向AI光互联的应用中,PWB与玻璃通孔技术被视为协同突破的两项核心工艺。PWB技术已通过Telcordia系列环境测试,并在哈佛大学、住友电工等机构得到验证应用。
 
三、技术局限与发展方向
 
PWB技术的局限性主要体现在材料体系上——当前主要采用聚合物材料,其长期稳定性和温度特性与无机材料存在差异。此外,PWB波导的传输损耗和偏振相关损耗仍需进一步优化。随着光子集成度的持续提升,PWB有望在光电共封和光输入/输出等方案中发挥日益重要的作用
服务热线 0535-2981985
Copyright © 2026魔技纳米科技有限公司 All Rights Reserved    备案号:鲁ICP备2022010272号-1

鲁公网安备 37069302000947号