基于紫外光刻的⽆掩模激光直写光刻设备，⽤于晶圆级2D/2.5D微纳结构加⼯。 设备小巧紧凑型设计，无需掩模版，具备高直写速度、高分辨率等特点。采用集成化设计，全自动控制，操作简便，适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等研究领域。