18615037228
纳米精度3D打印 无掩膜紫外光刻 超快激光刻蚀
当前位置:首页 > 产品展示 > 无掩膜紫外光刻设备 >
产品分类
无掩膜紫外光刻设备
相关文章
⽆掩膜紫外光刻设备,⽤于晶圆级2D/2.5D微纳结构加⼯ 设备无需掩膜,可实现纳米级精度加工,拼接误差极小,自主研发的超高速加工方式,具备高直写速度、高分辨率等特点。集成化设计,全自动控制,操作简便,适用高达12英寸的基材,适合快速加工、建模或小批量生产,便于工业应用。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。
在线咨询
电话
微信扫一扫
返回顶部
鲁公网安备 37069302000947号