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    基于紫外光刻的⽆掩模激光直写光刻设备,⽤于晶圆级2D/2.5D微纳结构加⼯。 设备小巧紧凑型设计,无需掩模版,具备高直写速度、高分辨率等特点。采用集成化设计,全自动控制,操作简便,适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等研究领域。

    更新时间:2023-04-03访问量:2064
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