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MN-UV-Smart魔技纳米无掩膜激光直写设备

简要描述:MN-UV-Smart魔技纳米无掩膜激光直写设备:基于数字微镜(DMD)的投影光刻技术,无需掩模,一步成型,高达300nm的加工线宽与每分钟300mm²的加工速度。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-13
  • 访  问  量:1142

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详细介绍

品牌自营品牌应用领域医疗卫生,生物产业,电子,电气,综合
技术原理无掩膜紫外投影最小线宽1μm
最大直写速度≥30mm²/min最大加工尺寸100mmx100mm

MN-UV-Smart魔技纳米无掩膜激光直写设备

MN-UV-Smart(jpg).jpg

MN-UV-Smart魔技纳米无掩膜激光直写设备

产品优势:

300纳米的加工精度;

拼接误差极小,保证结构边缘平滑;

高达每分钟300平方毫米的加工速度。

企业介绍:

     魔技纳米科技有限公司成立于2017年,是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有12年以上超快激光三维加工设备研发经验,致力打造拥有自主知识产权的超稳定纳米级三维激光直写制造系统,提供集先进光学系统、控制系统、整机设计于一体的光机电系统完整技术方案。

     深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域,拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品,突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障,将纳米级制造精度和大范围生产结合,提供针对精密智造领域的整套专业解决方案

了解更多魔技纳米MN-UV-L100 无掩膜紫外光刻设备的报价、参数等详细信息,欢迎来电或留言咨询。

公众号:魔技纳米


MN-UV-Smart魔技纳米无掩膜激光直写设备

产品技术参数

技术原理

无掩模紫外投影standard

最小线宽

1 μm *

最大直写速度

30 mm²/min *

最大加工尺寸

100 mm x 100 mm

拼接精度

0.8 μm *

自动对焦

光学对焦

光源

405 nm/365 nm

*与物镜及光刻胶有关,可选配

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