魔技纳米UV-Smart有哪些独特功能

无掩膜光刻设备是一种通过高精度光学系统直接投射电路图案至光敏材料的工艺试验仪器，消除了传统光刻所需的掩膜版制作环节。该设备可分为光学类和带电粒子类，包括激光直写、电子束直写等技术类型。在半导体制造中，其显著优势为提升光刻效率、降低生产成本并缩短研发周期，广泛应用于生物芯片、微机电系统及先进封装领域。