无掩膜直写光刻设备拥有跨尺度纳米级三维加工能力

更新时间：2024-12-07

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无掩膜激光直写光刻机‌是一种利用激光直接在光刻胶上曝光制作所需图案的设备，其适用于实验室和科研机构，能够进行微纳尺度的光刻加工。应用：

电子/半导体器件

微/纳电机系统

自旋电子学

传感器

微流控

材料科学

生物实验室芯片

光子学

主要特点：

适用于大规模生产和工业级应用

从纳米级到十微米多种加工模式，实现更高的加工精度与速度

加工图案预览功能和对准误差补偿

加工面自动平整和自动聚焦，保证加工一致性

全自动化的可视控制系统与图形化编程语言的应用，显著提升设备调控的灵活性与自主性

更高的对准、拼接和套刻精度

长时稳定性控制系统，保证加工稳定性余一致性

更大的加工区域，适用不同尺寸基材，提供自动化样品吸盘夹具

跨尺度纳米级三维加工能力，魔技纳米深入生物医药、维纳光学、光电通信、新材料、防伪等多领域，结婚自研设备，摸索并形成面向多个行业应用的成熟的加工工艺。

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