三维激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm，具有电动光学聚焦系统，提供快速的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。激光直写不仅具有无掩模板直写系统的灵活性，还拥有高书写速度和低成本的特点。三维激光直写多个蓝光激光头可以在电脑控制下进行平行工作对基片上无需高分辨率的部分进行高速书写曝光，之后自动切换高分辨激光，并对需要高分辨的细节进行加工。这样的设计在加工速度和...

紫外光刻仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准，然后曝光，将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上，用于纳米器件的微加工。紫外光刻主要功能：采用紫外光源，实现光刻胶的曝光，将光刻版上的图形转移到光刻胶上，在光刻胶上制作出亚微米（＞0.8um）图形结构。紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。紫外(UV)光刻和直接书写的方法，其中曝光模式和剂量都是由互补金属氧化物半导体(CMOS)控制的微像素化发光二极管阵列决定的。来自演示器8x...

纳米针具有哪些可观的应用前景呢？纳米针是通过纳米技术打开皮肤管道的一种微针，针头类似一块小小的晶片方块，上面布满了密密的、细到看不出来的小针，将这个小方块按在皮肤上，就能让药物进入表皮，而人几乎没有感觉。2015年3月，英国伦敦帝国学院(ImperialCollegeLondon)和·美国休斯顿教学研究所(HoustonMethodistResearchInstituteintheUSA)的研究人员希望他们的纳米针技术能帮助人类受伤组织（器官）和神经的修复。纳米针的工作是将核...

三维激光直写仪是纳米压印光刻和纳米结构制备的关键设备，它采用机械模具微复型原理来代替包含光学、化学及光化学反应机理的传统复杂光学光刻，从而进行纳米图形加工和纳米微结构制造。飞秒激光直写光纤Bragg光栅（FBG）多个领域开创全新的传感机遇，严苛的环境下对温度，应变，应力，振动，速度，加速度等多变量进行测量。与传统FBG解决方案*不同，FsFBG用飞秒激光直接透过各类特种光纤涂覆层在光纤纤芯写入光纤布拉格光栅，具有非常优越的稳定性。并可根据客户要求参数进行定制。FBG是制造在光...

双光子光刻技术（TPL）是一种基于双光子聚合的激光直写技术，这种技术能够制造具有亚微米特征尺寸的任意复杂的三维结构。由于双光子激光直写技术，是基于逐点串行写入的方式来实现三维加工，因此加工速度慢、效率低，很难同时满足高精度和高速度；在大规模的工业生产中，传统双光子激光直写技术的可扩展性也是有限的。飞秒激光投影式双光子技术通过实现逐层并行化的加工方式，可以将加工速度提高一千倍。然而，大面积并行化加工的方式，也改变了双光子聚合过程中的时间和长度尺度。因此，建立并行投影双光子的模型...

微纳3D打印技术将作为重要技术基石之一，把人类的工业文明推进到4.0时代。目前的3D打印也已经进入到了细分市场的阶段，有家用桌面级的小型3D打印机，也有工业生产的大型工业级3D打印机；打印材料有的是塑料，有的是金属，甚至还有黏土。但无论是桌面级还是工业级，常见的3D打印机工作原理都是分层制造，这使得层与层之间的精度很受限，存在所谓的“台阶效应”。这使得3D打印机难以制造低粗糙度、高精度的器件，如各种光学元件、微纳尺度的结构器件等等。3D打印被称为双光子3D打印，其实专业名称应...