选择合适的多光子聚合光刻胶，要考虑哪些因素

多光子聚合光刻胶（Multiphoton Polymerization Photoresist）是专为飞秒激光三维微纳加工设计的特种光敏材料。多光子聚合光刻胶专为飞秒激光三维微纳加工设计，选择时需综合关键性能指标以确保精度、效率和应用适配性。

应用场景‌：

‌生物医学‌：微流控芯片、仿生支架制造，避免光引发剂生物毒性；‌

‌光子器件‌：三维光子晶体、微透镜阵列加工‌；

‌精密机械‌：元件直写，支持复杂悬空结构‌。

关键性能指标选择标准‌：

‌分辨率‌：决定最小特征尺寸（通常需达100nm级别），高分辨率支持制造更精细的结构（如微透镜或光子晶体）；但需权衡成本与性能，避免过度投入。‌

‌灵敏度‌：反映对曝光能量的敏感度，高灵敏度可降低激光曝光剂量，提升加工效率；但需注意高灵敏度可能增加环境敏感度。‌

‌对比度‌：影响图案边缘锐利度，高对比度（接近90°侧壁）减少线条模糊，提升结构准确性。‌

‌显影性能‌：确保未曝光区域去除，减少残留物；选择时应关注显影速度与均匀性。‌

‌机械性能‌：包括硬度、韧性和抗拉伸性，防止在涂布或加工中发生变形或开裂。‌

‌耐化学性与热稳定性‌：耐受腐蚀剂、清洗剂及高温处理（如烘烤），避免图形失真；热稳定性对多光子聚合的高能激光环境尤为重要。‌

‌纯度‌：杂质含量需严格控制在ppb级别，高纯度减少微缺陷风险。