无掩膜直写光刻技术对比传统掩膜光刻有什么优势

无掩膜直写光刻设备定义为一种无需物理掩膜版、通过计算机控制的高精度光束（如激光束或数字微镜器件）直接在光刻胶或感光材料的基材上曝光图形的微纳加工设备，适用于微纳米级图形制备。其核心技术基于光学或带电粒子束（如激光直写、DMD投影）直接扫描或投影图案，消除了掩膜版制作环节，实现高精度图形转移。设备的核心优势包括高灵活性、快速原型制造能力，以及显著降低研发成本和时间周期。主要应用于科研机构、实验室及小批量工业原型制造（如微流控芯片、半导体器件开发）。