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紫外光刻仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器

发布时间:2022-05-06      点击次数:702
  紫外光刻仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准,然后曝光,将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上,用于纳米器件的微加工。
  紫外光刻主要功能:
  采用紫外光源,实现光刻胶的曝光,将光刻版上的图形转移到光刻胶上,在光刻胶上制作出亚微米(>0.8um)图形结构。紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
  紫外(UV)光刻和直接书写的方法,其中曝光模式和剂量都是由互补金属氧化物半导体(CMOS)控制的微像素化发光二极管阵列决定的。来自演示器8x8氮化镓微像素LED的370nm紫外光使用两个背对背显微镜物镜投射到光刻胶覆盖的基底上,允许控制去除。在目前的设置中,该系统能够在直径为~8?m的圆形点中为每个成像像素提供高达8.8W/cm2。我们展示了用正光刻胶和负光刻胶书写的示例结构。
  光刻技术是微图案化的方法, 按照最近报道的方法设计了CMOS控制装置,使交替像素可操作,从而得到了一个发光的8x8阵列[图]1(a)]。这是由于凹凸键合过程,目前限制了像素到像素间距为~200?m。
  紫外光刻机的主要核心部件主要分为两个部分:分别是对准系统和紫外光源。
  目前对准系统主要有两大难题,精密的机械工艺和对准显微镜系统。精密的机械工艺目前只有美国,而对准显微镜系统其实就是镜片,在这方面我国一直处于落后的状态。
  关于紫外光源,光刻机对光源的要求十分高,一是要有适当的波长,二是光要有足够的能量,三是光能量且必须要均匀的分布在曝光区。
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