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MN-UV-Ultra魔技纳米无掩模激光直写设备

简要描述:MN-UV-Ultra魔技纳米无掩模激光直写设备:自主创新的激光直写方式,采用非接触式数字微镜和矢量扫描加工方式相结合,可实现快速高平滑边缘加工,同时实现高精度和高速加工模式。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-12
  • 访  问  量:393

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详细介绍

品牌自营品牌应用领域医疗卫生,化工,生物产业,电子,综合
类型Standard最小线宽0.8μm
最小线间距1μm边缘粗糙度0.04μm
结构均匀性0.08μm

魔技纳米MN-UV-Ultra无掩模激光直写设备

PROME跨尺度微纳三维激光直写设备.png

魔技纳米MN-UV-Ultra无掩模激光直写设备

产品优势:

无需掩模,可实现纳米级精度的三维加工

自主研发的超高速加工方式,便于工业应用;

拼接误差极小

适用高达12英寸的基材;

全自动控制系统

企业介绍:

     魔技纳米科技有限公司成立于2017年,是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有12年以上超快激光三维加工设备研发经验,致力打造拥有自主知识产权的超稳定纳米级三维激光直写制造系统,提供集先进光学系统、控制系统、整机设计于一体的光机电系统完整技术方案。

     深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域,拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品,突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障,将纳米级制造精度和大范围生产结合,提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

了解更多魔技纳米MN-UV-Ultra无掩模激光直写设备报价、参数等详细信息,欢迎来电或留言咨询。

公众号:魔技纳米


魔技纳米MN-UV-Ultra无掩模激光直写设备

产品技术参数

类型

Standard

最小线宽

0.8 µm

最小线间距

1 µm

边缘粗糙度

0.04 µm

结构均匀性

0.08 µm

对准精度(100*100 mm2

0.6 µm

最大加工速度

75 mm2 /min

最大曝光面积

100*100 mm2

光源LED/Laser

405/365 nm
























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